隨著超高層建筑的高度頻繁刷新，基礎(chǔ)施工質(zhì)量的重要性愈發(fā)明顯，打牢基礎(chǔ)是萬(wàn)丈高樓平地起的重要保障，故對(duì)于施工過(guò)程中的質(zhì)量控制不得馬虎大意，同時(shí)還要注意諸多質(zhì)量通病問(wèn)題。

基礎(chǔ)施工材料控制

材料質(zhì)量是工程施工質(zhì)量的基礎(chǔ)，通過(guò)施工前對(duì)材料進(jìn)行質(zhì)量控制保證材料質(zhì)量。

（1）審核材料供應(yīng)廠家，選擇具有資質(zhì)的供應(yīng)商。

（2）對(duì)進(jìn)場(chǎng)原料進(jìn)行必要檢驗(yàn)，檢查質(zhì)量檢驗(yàn)報(bào)告單、出廠證明、外觀、理化性能。

基礎(chǔ)軸線位移控制

（1）定位放線時(shí)在外墻角處設(shè)置龍門板，防止槽邊堆土或進(jìn)行其他作業(yè)。

（2）橫墻軸線應(yīng)設(shè)置中心樁，不宜采用基槽內(nèi)排尺法控制，并控制中心樁與地面齊平。

（3）復(fù)核相鄰軸線距離，驗(yàn)證中心樁是否有移位情況。

（4）基礎(chǔ)收分部分砌完后須拉通線重新核對(duì)軸線誤差，以新定出軸線為準(zhǔn)，隨后方可進(jìn)行其他工序。

基礎(chǔ)標(biāo)高偏差控制

（1）加強(qiáng)施工中對(duì)基礎(chǔ)層標(biāo)高的控制，盡早控制在允許偏差之內(nèi)。

（2）砌筑基礎(chǔ)須整體核查基層標(biāo)高，將局部低凹處用細(xì)石混凝土墊平，凸起處鏟平。

（3）立皮數(shù)桿時(shí)宜直接夾砌在基礎(chǔ)中心位置，檢查皮數(shù)桿標(biāo)高時(shí)應(yīng)使用水準(zhǔn)尺校平。

（4）寬大基礎(chǔ)放大腳應(yīng)雙面掛線砌筑，并測(cè)量頂面標(biāo)高

施工質(zhì)量控制

強(qiáng)夯法質(zhì)量控制

（1）精準(zhǔn)測(cè)量定位，夯擊前根據(jù)試夯確定的夯點(diǎn)布置逐一測(cè)放夯點(diǎn)位置。

（2）強(qiáng)夯前用推土機(jī)預(yù)壓兩遍，整平后測(cè)量場(chǎng)地高程。對(duì)于高地下水位的場(chǎng)地應(yīng)在表面鋪墊層或降低地下水位。

（3）強(qiáng)夯法夯完一次后由推土機(jī)整平，放線定位后再進(jìn)行下一遍夯擊，按先深后淺順序加固，每次夯擊后用新土或周圍的土填平夯擊坑。

注漿法質(zhì)量控制

（1）鉆孔時(shí)保留一定厚度土層不加固以防漿液上冒，控制灌注漿液壓力恒定、平穩(wěn)。

（2）場(chǎng)地相鄰?fù)翆拥耐临|(zhì)不同時(shí)須先加固滲透系數(shù)較大的土層，并經(jīng)常抽查漿液配比及主要性能指標(biāo)。

（3）在孔位平面圖上對(duì)已注漿位置進(jìn)行標(biāo)記并注明鉆孔日期，根據(jù)時(shí)間進(jìn)行質(zhì)量檢驗(yàn)。

鉆孔灌注樁質(zhì)量控制

（1）測(cè)定場(chǎng)地標(biāo)高后確定樁機(jī)入土深度，并根據(jù)地面變化情況調(diào)整鉆進(jìn)深度及壓灌深度，以確保有效樁長(zhǎng)。

（2）鉆機(jī)就位前再次校對(duì)樁位準(zhǔn)確性，鉆機(jī)位置誤差不大于10mm。

（3）鉆進(jìn)過(guò)程中須經(jīng)常檢查鉆機(jī)平整度和鉆桿垂直度，并根據(jù)地層巖性設(shè)定適宜鉆進(jìn)速度和轉(zhuǎn)速。

（4）鉆孔完成后檢查深度，達(dá)到設(shè)計(jì)要求后方可壓灌混凝土。

驗(yàn)槽質(zhì)量控制

（1）驗(yàn)槽由設(shè)計(jì)、勘查、建設(shè)、監(jiān)理及施工單位5方共同進(jìn)行，問(wèn)題由勘察單位提出，設(shè)計(jì)單位簽發(fā)。

（2）驗(yàn)槽完成后方可進(jìn)行墊層施工并壓光，防止起砂后。

（3）施工時(shí)注意地下室結(jié)構(gòu)外防水質(zhì)量，確保防水材料基層堅(jiān)實(shí)、平整。

（4）基層施工前應(yīng)清理表面雜物及油污，將防水層表面磨平壓光無(wú)空鼓起砂，無(wú)裂縫。

（5）混凝土結(jié)構(gòu)應(yīng)根據(jù)基層表面情況嵌補(bǔ)或抹水泥砂漿找平層。

基礎(chǔ) 標(biāo)高 軸線

標(biāo)題：7項(xiàng)超高層建筑物基礎(chǔ)質(zhì)量控制措施，版權(quán)歸原作者所有。
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