由于壩的左右山脊地質(zhì)條件不是十分良好，因此加高前于左右壩座分別進(jìn)行隔幕灌漿，由于首先發(fā)現(xiàn)壩面異常滲水之位置較接近左壩座，初期工程人員推測(cè)為庫(kù)水經(jīng)左山脊?jié)B漏至下游殼層；水庫(kù)管理單位為解決異常滲水問(wèn)題，另于左壩座再施作一道隔幕灌漿，但滲漏問(wèn)題仍無(wú)法獲得改善。

圖 (a) 壩頂測(cè)線(xiàn)（Line A）與下游殼層測(cè)線(xiàn)（Line B）電阻率層析成像結(jié)果的2.5-D 呈現(xiàn)；(b) 鄰近壩面異常滲漏位置2 (EL. 46 m) 、4 (EL. 62 m)剖面之低電阻位置信息與壩體水壓計(jì)（Q3、Q4）觀測(cè)結(jié)果，虛線(xiàn)箭頭表示可能滲流路徑，下方虛線(xiàn)表示地下水位。

為了勘查壩面異常滲漏之機(jī)制，分別在左壩座、壩頂和下游面通達(dá)道路三處布設(shè)三條二維ERT測(cè)線(xiàn)，現(xiàn)場(chǎng)施測(cè)采用電極間距5公尺之Wenner排列，數(shù)據(jù)反演采用Res2Dinv軟件進(jìn)行分析。其中壩頂（Line A）及下游壩面（Line B）兩條測(cè)線(xiàn)施測(cè)結(jié)果如圖a所示，可發(fā)現(xiàn)各有兩處異常低電阻區(qū)，疑似為兩處對(duì)應(yīng)的異常滲流路徑。

由于電阻率除了受到地下含水飽和度的影響，其數(shù)值的高低亦取決于地層材料的粒徑分布，難以單從地電阻影像的結(jié)果即斷定兩處低電阻區(qū)域?yàn)楫惓B流區(qū)域。因此，圖b將左側(cè)低電阻位置信息與壩體水壓計(jì)觀測(cè)結(jié)果（Q3、Q4）及壩面異常滲漏目視檢查結(jié)果在鄰近同一斷面整合，結(jié)果顯示兩處低電阻區(qū)域仍遠(yuǎn)高于地下水位，但兩處地電阻區(qū)上下鏈接的疑似滲漏路徑正好對(duì)應(yīng)壩面主要滲漏位置4（位于圖b所在的斷面）。

另外，兩條測(cè)線(xiàn)右側(cè)之另一組低電阻區(qū)正好對(duì)應(yīng)壩面主要滲漏位置3，壩面異常滲漏位置1、2則分別位于壩面滲漏位置3、4下游側(cè)的戧臺(tái)，可能是滲漏位置3、4沿著壩面拋石層往下游滲流至戧臺(tái)滲出。電阻率層析成像結(jié)果有助于發(fā)現(xiàn)異常滲漏的地下通道，但其判釋更需整合電探反演結(jié)果及相關(guān)水文地質(zhì)與壩體觀測(cè)資料。

壩面滲水及圖所揭露之可能滲漏路徑高出地下水位甚多，這說(shuō)明下游面的滲漏并非由水庫(kù)的穩(wěn)態(tài)滲流造成，根據(jù)滲漏量水堰的監(jiān)測(cè)結(jié)果，大量的滲漏主要發(fā)生在降雨過(guò)后。因此推估可能的滲漏機(jī)制為壩體降雨入滲因壩體材料透水性非均質(zhì)在相對(duì)較不透水層產(chǎn)生棲止水（低電阻顯示的濕潤(rùn)區(qū)），棲止水最后延接口滲出壩面之滲漏位置3、4，或部分再往下流至壩面滲漏位置1、2。

電阻 位置 下游

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